PVD hübriidse õhukese kile sadestamise süsteem integreerib termilise aurustamise, elektronkiirega (e-kiirega) aurustamise ja RF/DC magnetroni pihustamise ühes vaakumarhitektuuris. See platvorm võimaldab metallide, sulamite ja dielektrikute järjestikust või kaas{2}}sadestumist vaakumit purustamata, vältides pindade oksüdatsiooni. Teadus- ja arendusasutuste ning katsetootmisliinide jaoks loodud süsteem käsitleb kuni 6-tollisi substraate automaatse mitmeteljelise pööramisega.
Tehnilised andmed
|
Parameeter |
Spetsifikatsioon |
|
Ülim baasrõhk |
< 5.0 x 10^-6 Pa (baked out) |
|
Pumba -vähenemisaeg |
< 15 minutes to 1.0 x 10^-3 Pa |
|
Substraadi suurus |
Kuni 6-tollise läbimõõduga vahvlite / kohandatud hoidikud |
|
Kile paksuse ühtlus |
<= +/- 1% across a 4-inch substrate (planetary rotation) |
|
Sadestumise allikad |
Kuni 3 e-kiire taskut, 2 termopaati, 4 magnetronkatoodi |
|
Substraadi temperatuur |
Ümbritsev temperatuur kuni 800 ° C (PID kontrollitud) |
|
Kambri materjal |
304L / 316L elektropoleeritud roostevaba teras |
|
Ohutusvastavus |
CE nõuetele vastav; nõudmisel UL / NFPA standarditele ehitatud komponendid |
Põhifunktsioonid
Modulaarsed pistikupesad:Vahetatavad allikaäärikud võimaldavad kiiret ümberseadistamist pihustuskatoodide ja termilise/e{0}}kiirega aurustite vahel.
Isolatsiooni arhitektuur:Pneumaatilised paisuventiilid isoleerivad protsessikambri kõrgvaakumkihist, et minimeerida osakeste teket.
In-Situatsiooni jälgimine:Spetsiaalsed pordid kvartskristallide mikrotasakaalu (QCM) anduritele ja optilise emissioonispektroskoopia (OES) jaoks.
Blokeeritud ohutus-PLC:Riistvarablokeeringud takistavad allika aktiveerimist kõrge rõhu, jahutusvee rikke või ohutusnõuete rikkumise korral.
Vaakumsüsteemi konfiguratsioon
Karastuspump:Kuiva kerimispump (30 m^3/h), et välistada süsivesinike tagasivoolu.
Kõrgvaakumpump:Magnetiliselt leviteeritud turbomolekulaarpump (1200 l/s N2 puhul), mida toetab krüogeenne lõks.
Mõõdikud:Kombineeritud Pirani- ja külmakatoodiandurid, mis ulatuvad atmosfääri rõhuni 10^-7 Pa.
Küpsetamine:Kassettküttekehad välise isolatsioonitekkidega, mis ulatuvad kuni 150 kraadini.
Materjalide ja substraadi ühilduvus
Aurustavad materjalid:
Metallid:Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Cu, Ni
Dielektrikud ja oksiidid: SiO2, TiO2, Al2O3, ITO
Pooljuhid:Si, Ge
Substraadi tüübid:Üksik-kristallilised räniplaadid, klaas, kvarts, polüimiidkiled ja metallfooliumid.
Rakendused
Optoelektroonilised seadmed:Läbipaistvad juhtivad elektroodid (ITO) ja mitmekihilised{0}}reflektorid OLED-ide ja päikesepatareide jaoks.
Mikroelektrooniline pakend:Alusmetalliseerimine (UBM) ja seemnekihid vahvli-tasemel pakendamiseks.
Täiustatud teadus- ja arendustegevus:Kvantseadmete struktuurid, ülijuhtide õhukesed kiled ja magnettunneli ristmikud (MTJ).
Kohandamise valikud
Kambri skaala:Laiendatud mõõtmed 12-tolliste aluspindade või kindalaeka integreerimise jaoks.
Allika seadistus:Kohandatud tiigli mahud, raadiosagedusliku eelpingega toiteallikad ja ioon-abiga sadestamise (IAD) moodulid.
Automatiseerimine:Puuteekraaniga retseptihaldus või täielik SECS/GEM-i tehase automatiseerimise vastavus.
Kvaliteedikontroll
Lekke testimine:Heeliumi massispektromeetri testimine kambri kohta (< 1 x 10^-10 Pa*m^3/s threshold).
Mõõtmete kontrollimine:Allika CMM-i kontrollimine-, et-substraadi kaugused ja ääriku tolerantsid määrata.
Elektriline testimine:Tere -Posti testimine, maanduse järjepidevuse kontrollid ja EHS-auditid kõikidel-kõrgepingeliinidel.
Installimine ja tugi
Tehase vastuvõtutest (FAT):Tarneeelsed kontrollid baasrõhu, allika funktsionaalsuse ja automaatse jalgrattasõidu kohta meie rajatises-.
Paigaldamine põllule:Saidil-mehaaniline joondus, utiliidi ühendamise kinnitamine ja saidi vastuvõtutest (SAT).
Dokumentatsioon:Täielik tarne sisaldab elektriskeeme, P&ID diagramme, PLC varukoopiaid ja veski testimise sertifikaate.
KKK
K: Kas süsteem saab ühe käiguga lülituda reaktiivse pihustamise ja termilise aurustamise vahel?
V: Jah. Pneumaatilised aknaluugid isoleerivad iga allika, võimaldades järjestikust täitmist ilma vaakumkatkestuseta.
K: Millised on rajatise kommunaalteenuste nõuded?
V: Vajab 3-faasilist 380 V/480 V toidet, jahutusvett (18 ° C kuni 22 ° C 0,3 MPa juures), suruõhku (0,5 kuni 0,7 MPa) ja töötlevat pumba väljalasketorustikku.
K: Kuidas välditakse metalliallikate ristsaastumist-?
V. Üksikud korstnad, suunaga tõkked ja füüsilised aknaluugid minimeerivad materjali rist-kõne mitme allikaga töötamise ajal.
Kuum tags: pvd hübriid õhukese kile sadestamise süsteem, Hiina pvd hübriid õhukese kile sadestamise süsteemi tootjad, tarnijad, tehas
