Toote ülevaade

 

See elektronkiirega aurustamise õhukese kile seade on konstrueeritud ülitäpse{0}}füüsikalise aurustamise-sadestamise (PVD) jaoks. Kasutades lähtematerjalide pommitamiseks fokuseeritud suure-energiaga elektronkiirt, saavutab süsteem kõrge aurustumiskiiruse kõrge -sulamistemperatuuriga-metallide, oksiidide ja dielektriliste materjalide puhul.


Modulaarsele vaakum-arhitektuurile üles ehitatud süsteem mahutab mitme{0}}taskuga elektronpüstolid, kohandatavad substraadikinnitused ja täiustatud kohapealse{1}}seire. See teenindab uurimis- ja arenduslaboreid ning suure tootlikkusega-tootmisliine, mis nõuavad ranget kontrolli kile stöhhiomeetria, adhesiooni ja optilise jõudluse üle.

 
 
Tehnilised andmed

 

Parameeter

Spetsifikatsioonivahemik

Märkused / Standardkonfiguratsioon

Ülim baasrõhk

< 5.0 × 10^-6 Pa

Saavutatakse krüogeensete või turbo{0}}molekulaarsete pumpamisrühmade abil

Kambri mõõtmed

Kohandatud (500 mm kuni 1200 mm siseläbimõõt)

304L / 316L roostevaba teras, elektro-poleeritud

E-Püstoli võimsuse reiting

6 kW kuni 15 kW (mitme{2}}taskupuhastusgeneraatorid)

Programmeeritav kiire kõrvalekaldumine ja mitme{0}}tiigli indekseerimine

Sadestumise määr

0,1 nm/s kuni 10 nm/s

Reaalajas suletud-ahela juhtimine kvartskristallkuvari kaudu

Kile paksuse ühtlus

< ±1% to ±2% across standard substrates

Muutuva pöörlemiskiirusega planetaar- või kuppelsubstraadi kinnitus

Substraadi temperatuur

Ümbritsev kuni 800 kraadi

Integreeritud kiirgusküte PID termilise tagasisidega

 

Seadme peamised omadused

Kõrge{0}}stabiilsusega elektronpüstol:

Sellel on magnetiline läbipaine ja mitme{0}}punkti teravustamine, et vältida lähtematerjalide kohalikku ülekuumenemist ja vältida reaktiivse aurustamise ajal tekkimist.

Moodultiigli disain:

Varustatud 4–6-taskuga indekseeritavate koldega, mis võimaldab mitmekihilist sadestumist ilma vaakumit purustamata.

 

Täiustatud vaakumblokeering:

PLC{0}}juhitavad pneumaatilised ventiilid, automaatne töötlemine/kõrg{1}}vaakumjärjestus ja blokeeringud kaitsevad jahutusvee rikke ja toitehäirete eest.

Madal-saaste kamber:

Sisemine varjestus kasutab elektro{0}}poleeritud roostevaba terast koos eemaldatavate vooderdistega, et kiiresti vähendada tahkete osakeste tekkimist ja hooldust.

 

 

Kilematerjalid ja aluspinnad

 

Ühilduvad aurustusmaterjalid

Metallid: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielektrikud ja oksiidid: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO

 

Substraadi tüübid

Räniplaadid (2-12 tolli)
Optiline klaas, sulatatud ränidioksiid ja kvarts substraadid
Painduvad polümeerkiled (polüimiid, PET rull-{0}}--rullimoodulite kaudu)
Keraamilised aluspinnad (Al2O3, AlN)

 
 
 
Rakendused
High Vacuum Electron Beam Evaporation Equipment

Optilised katted:

Peegeldusvastased (AR) katted, kitsariba-filtrid ja suure-peegeldusvõimega peeglid laser- ja fotoonikasüsteemide jaoks.

Electron Beam Thin Film Deposition System

Pooljuhtseadmed:

Mikroelektroonika oomiline kontakti moodustamine, värava metalliseerimine ja{0}}tõmbetöötlus.

Electron Beam Vacuum Evaporation Equipment

Optoelektroonika:

Läbipaistvad juhtiva oksiidi (TCO) kihid ja õhukesed kiled OLED-ekraanide ja fotogalvaaniliste elementide jaoks.

Electron Beam Evaporation Thin Film System

Täiustatud teadus- ja arendustegevus:

Uurimuslikud õhukese{0}kile magnetkihid, ülijuhtivad kiled ja mitmekihilised heterostruktuurid.

 

Kohandamine ja süsteemi konfigureerimine
 
 

Iga õhuke{0}}kilesüsteem on konfigureeritud vastama konkreetsete protsessiretseptide ja rajatiste paigutustele. Saadaolevate tehniliste kohanduste hulka kuuluvad:

 

Pumbakorstna valik:

Turbo-molekulaarpumbad (TMP), krüopumbad või õli-difusioonikonfiguratsioonid, mis on kohandatud vaakumi ja läbilaskevõime põhinõuetele.

 
 

Laadi{0}}Luku integreerimine:

Käsitsi laaditav-lukk või automatiseeritud mitme-kambriga klastrisüsteemid, et säilitada üli-kõrge vaakumi terviklikkus ja suurendada vahvli läbilaskevõimet.

 
 

In-Situ metroloogia:

Integratsioonipordid spektroskoopiliste ellipsomeetrite, optiliste monitoride või jääkgaasi analüsaatorite (RGA) jaoks.

 
 

Juhtimistarkvara:

Patenteeritud PLC/HMI liides koos retseptide salvestamise, andmete logimise ja SECS/GEM sideprotokollidega nutikaks tehase integreerimiseks.

 

 

 
 
Tootmine ja kvaliteedikontroll
01.

Laeva valmistamine:

Kõik vaakumkambrid läbivad heeliumi massispektromeetri lekkekatse, mille hülgamislävi on < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.

02.

Keevisõmbluse terviklikkus:

TIG-keevitus teostatakse inertgaasi varjestuse all, millele järgneb sisepinna passiveerimine ja mehaaniline poleerimine, et vähendada gaasi väljavoolu.

03.

Tehase vastuvõtutest (FAT):

72-tunnine pidev kuiv-töökatse, mis mõõdab pumpamiskõveraid, e-püstoli pühkimistäpsust, blokeerimisreaktsiooniaegu ja termilist stabiilsust enne kastidesse panemist.

04.

Vastavus ja standardid:

Toodetud ISO 9001 sertifitseeritud kvaliteedijuhtimissüsteemi alusel, koos süsteemidega, mis on projekteeritud nii, et need vastaksid CE-direktiividele ning asjakohastele SEMI (S2/S8) ohutus- ja ergonoomikajuhistele.

 

Paigaldus ja tehniline tugi
Kohapealne kasutuselevõtt-:
Tehase -sertifitseeritud teenindusinsenerid tegelevad mehaanilise positsioneerimise, kommunaalteenuste ühendamise (toide, jahutusvesi, suruõhk) ja esialgse vaakum{1}}küpsetamisega.
Protsessi häälestamine:
Koostöökatsed, kasutades kliendi{0}}määratud substraate, et kontrollida sadestumise kiirust, ühtlust ja kile nakkumist.
Elutsükli hooldus:
Garanteeritud varuosade saadavus{0}}kõrge kulumisega komponentidele (kiud, tiiglid, kilbid) ja kaugdiagnostika tugi krüptitud tööstuslike VPN-ühenduste kaudu.

 

 

KKK

 

 

K: Mis on standardse süsteemikonfiguratsiooni tüüpiline tarneaeg?

V: Standardkonfiguratsioonid tarnitakse 16–20 nädala jooksul pärast joonise kinnitamist. Väga kohandatud süsteemid, mis nõuavad spetsiaalset koormust-luku konfiguratsiooni või mittestandardset kambri geomeetriat, ulatuvad 24 kuni 30 nädalani.

K: Kuidas vältida materjalide ristsaastumist{0}}erinevate aurustite vahel?

V: Süsteem kasutab individuaalseid vesijahutusega koldetaskuid, mis on eraldatud termiliste ja füüsiliste tõketega, koos optimeeritud elektronkiirega pühkimismustriga, mis välistab materjali pritsimise.

K: Millised on rajatise kommunaalteenuste nõuded 10 kW süsteemile?

A: Requirements typically include 3-phase 380V/480V AC power, closed-loop chilled water supply (10–15°C, flow rate >30 L/min) ja kuiv suruõhk (0,6–0,8 MPa) pneumaatiliste ventiilide jaoks.

Oleme hästi-tuntud kui üks juhtivaid elektronkiire aurustamise õhukese kile seadmete tootjaid ja tarnijaid Hiinas. Kui kavatsete osta Hiinas valmistatud kohandatud elektronkiire aurustamise õhukese kile seadmeid, saate meie tehasest hinnakirja. Hinnakonsultatsiooni saamiseks võtke meiega ühendust.

Küsi pakkumist
Võtke meiega ühendustkui teil on küsimusi

Võite meiega ühendust võtta telefoni, e-posti või alloleva vormi kaudu. Meie spetsialist võtab teiega peagi ühendust.

Võtke kohe ühendust!