Toote ülevaade

 

Tööstuslik mitme -kaare ioonplaadistusseade, mis on loodud täppiskomponentidele kõvade katete, funktsionaalsete kilede ja dekoratiivse PVD viimistluse kandmiseks. Kasutades kõrge -voolu, madalpinge-vaakumkaarelahendust, aurustab süsteem otse tahked sihtmaterjalid (Ti, Cr, Al, Zr). Reaktiivsete gaasidega (N2, O2, C2H2) kombineerituna sünteesib see tihedaid siirdemetallide nitriide, karbiide ja oksiide otse metallsubstraatidele.


Modulaarsele vaakumkambriarhitektuurile rajatud käivitusvalmis PVD-lahendus mahutab erineva tootmismahu-alates uurimis- ja arendustegevuse partiitöötlusest kuni automatiseeritud, suure tootlikkusega-sisese tootmiseni. Süsteem on optimeeritud kõrge sihtkasutuse ja madalate kogukulude (TCO) jaoks pidevas 24/7 tööstuskeskkonnas.

 
  • Mitme -kaare vaakum-sadestamise seadmed
    See mitme -kaare vaakum-sadestamise süsteem kasutab katoodkaare ioonide plaadistamise tehnoloogiat tihedate, suure-adhesiooniga kõvade kattekihtide sadestamiseks metallilistele ja...
    Vaata veel
  • Mitme-kaare ioonsadestamise süsteem
    The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >Tahke katoodmaterjali 80%...
    Vaata veel
  • Mitme{0}}kaarega PVD õhukese kile seadmed
    Industrial Multi{0}}Arc PVD System kasutab kõrge-ionisatsiooniga katoodkaarega füüsikalist aursademist, et katta metallist aluspindadele tihedaid stöhhiomeetrilisi kõvasid katteid (nagu TiN,...
    Vaata veel
  • Mitme-kaare ioonsadestamise seadmed
    Tööstuslik mitme{0}}kaare ioonsadestamise süsteem tekitab kõrge-voolu, madalpinge-katoodkaare aurustamise teel tihedaid, suure-adhesiooniga õhukesi kilesid. Tahked sihtmaterjalid (katoodid)...
    Vaata veel
  • Multi-Arc Ion õhukese kile süsteem
    Tööstuslik mitme{0}}kaare ioonide õhukeste kilede süsteem kasutab katoodkaare aurustamist, et kanda metallist ja sulamitest aluspindadele tihedaid, suure{1}adhesiooniga keraamilisi ja...
    Vaata veel
  • Multi-Arc Ion õhukese kile seadmed
    See mitme -kaare ioonplaadistussüsteem kasutab katoodkaare aurutamist, et katta tihedad, suure{1}}adhesiooniga kõvad katted ja funktsionaalsed õhukesed kiled. Lüües kõrge-voolu, madalpinge-kaare...
    Vaata veel
 
Tehnilised andmed

 

Parameeter

Spetsifikatsioonivahemik

Ühik / Märkus

Kambri mõõtmed

Ф600 x 600 kuni Ф1500 x 1800

mm (kohandatud vertikaalsed või horisontaalsed konfiguratsioonid)

Ülim vaakumrõhk

<= 5.0 x 10^-4

Pa (kuivpump + turbo{1}}molekulaarne / õli difusioonikomplekt)

Katoodkaare allikad

4 kuni 16 ühikut

Elektromagnetilised juhitavad või filtreeritud kaareallikad (FCA)

Substraadi eelpinge võimsus

0 kuni -1000

V (täiustatud impulss-alalisvoolu / MF-i kallutatuse võimalused)

Kütte temperatuur

Toatemperatuur kuni 600

C (PID-ga juhitavad kiirguskütteseadmed)

Sadestumise ühtsus

<= +/- 5%

Mõõdetud XRF-i kaudu efektiivse tööpiirkonna ulatuses

Juhtimissüsteem

PLC + tööstusarvuti

Automatiseeritud retsepti täitmine, SCADA andmete logimine

Ohutus ja vastavus

CE, ISO 9001

Soovi korral on saadaval UL-ühilduvad elektrikilbid

 

 

Mitme-kaare ioonide sadestamise protsess

Füüsiline aurustamise-sadestamise jada toimib range, suletud-ahela automatiseeritud töövoo alusel, et tagada partiide-to{2}}kordatavus:


Evakueerimine ja gaasi eemaldamine:

Vaakumkamber pumbatakse alla baasrõhuni<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.


Plasma söövitamine (pommitamine):

Sisestatakse argoongaas. Substraadihoidikule rakendatakse suurt negatiivset nihket, tekitades arioone, mis pommitavad pinda, et pritsida looduslikke oksiide ja mikro{1}}saasteaineid.

Kaare aurustamine ja ioniseerimine:

Alalisvoolu kaarevool tabab tahket metallkatoodi. Kohalik katoodipunkt saavutab äärmise energiatiheduse, aurustades sihtmaterjali koheselt suure -tihedusega plasmavooks (ionisatsioonikiirus > 80%).

Reaktiivne sadestumine:

Reaktiivsed gaasid süstitakse plasmavoogu täpselt kontrollitud osarõhul massivooluregulaatorite (MFC) kaudu, moodustades pöörlevatel substraatidel stöhhiomeetrilised ühendikiled.

Jahutus ja õhutus:

Kontrollitud jahutamine toimub enne kambri õhutamist inertgaasi kaitse all, vältides värskelt kaetud osade oksüdeerumist.

 

Kile materjalid ja katte omadused

Süsteem toetab mitme{0}}metallkatoodi paigutust, võimaldades ühekihilisi, mitmekihilisi, nano-komposiit- ja gradientkilearhitektuure:

Multi-Arc Vacuum Deposition Equipment

TiN (titaannitriid):

Standardne kuldne kate; kõvadus 2200–2400 HV; hõõrdetegur 0,4. Peamine kasutusala: üldised lõikeriistad ja mehaanilised kuluvad osad.

Multi-Arc Ion Thin Film System

TiAlN (titaanalumiiniumnitriid):

oksüdatsioonikindlus kõrgel-temperatuuril kuni 850 C; kõvadus 3000–3300 HV. Peamine kasutusala: kiired{5}}kuivtöötlusdetailid ja mootoriventiilid.

Multi-Arc Ion Thin Film System

CrN / CrAlN (kroomnitriid):

Suurepärane korrosioonikindlus ja madal sisemine pinge; värviliste metallide-kinnimisvastased omadused-. Peamine kasutusala: vormimisvormid, kolvirõngad ja tekstiilimasinate komponendid.

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

ZrN / TiCN:

Madal pinnakaredus (Ra<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.

 

 

Rakendused

 

Täppislõiketööriistad:

Otsafreesid, puurid, pliidiplaadid ja indekseeritavad lõiketerad, mis nõuavad tööriista pikemat kasutusiga suure termilise koormuse korral.

01

Auto jõuülekanne:

Kolvi tihvtid, tihvtid, kütuse sissepritse komponendid ja hammasrataste pinnad, mis nõuavad vähendatud hõõrdumist ja kulumiskindlust.

02

Vormid ja stantsid:

Plastist survevaluvormid, stantsimisvormid ja survevalu-detailid, mis nõuavad vastupidavust liimikulumisele ja termilisele väsimusele.

03

Lennunduse komponendid:

Turbiini labad ja titaanist kinnitusdetailid, mis töötavad agressiivses söövitavas ja suures{0}}stressis keskkonnas.

04

 

Kohandamine ja süsteemi konfigureerimine
 

Tavalised kataloogitooted sobivad harva ideaalselt spetsiaalselt tehase paigutusega. Seadmete konfiguratsioonid on kohandatud konkreetse komponentide geomeetria, tsükliaja eesmärkide ja rajatise piirangute põhjal:

Kambri geomeetria:

Kaheksanurksed või silindrilised roostevabast terasest kambrid (SUS304/SUS316L), millel on topelt-vee-jahutussärgid.

Allika paigutus:

Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).

Substraadi kinnitamine:

Planetaarne pöörlemine (3-telg) või ühe pöörlemise mehhanismid, mida juhivad magnetilise vedeliku läbipääsud, et tagada ühtlane kattekiht keerukatel 3D geomeetriatel.

Pumbakorstna valikud:

Juurpuhurid, pöördlabapumbad, krüogeensed pumbad või turbomolekulaarpumbad, mis on konfigureeritud järgima rangeid pumpamistsükli aegu.

 

Kvaliteedikontrolli ja testimise protokollid

Iga masin läbib enne lähetamist range tehase vastuvõtutesti (FAT), mis dokumenteeritakse ostjale ülevaatamiseks:

01

Vaakumi terviklikkuse test:

Heeliumi lekke tuvastamine massispektromeetria abil (lekkekiirus<= 1 x 10^-10 Pa*m3/s).

02

Elektriohutus ja{0}}põlemine:

Toiteallikate, vesijahutusblokeeringute ja PLC-automaatika 72-tunnine pidev kuivtöö.

03

Katte kinnitamine (-maja labor):

Proovide katseid testiti Calo{0}}testiga (kile paksus), Rockwelli süvendiga (adhesioonitugevus) ja nanoindentatsiooniga (kõvadus).

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

 

Paigaldus, kasutuselevõtt ja tehniline tugi

Saidi ettevalmistamise juhised:

Jahutusvee vooluhulga/surve, suruõhu, väljatõmbeventilatsiooni ja elektrisiinide nõuete kohta on toodud üksikasjalikud tehnosüsteemide paigutusjoonised.

SAT ja kasutuselevõtt:

Paigaldamine-kohapeal (kohapealne vastuvõtmise testimine), vaakumkalibreerimine ja baasretsepti üleandmine, mille viivad läbi vanem PVD protsessiinsenerid.

Protsessi koolitus:

Praktilised-operaatorikoolitused, mis hõlmavad katoodide asendamise ajakavasid, vaakumi ennetavat hooldust, tõrkeotsingut ja põhiretseptide optimeerimist.

Varuosade tugi:

Kriitilised kulumiskomponendid (katoodid, kilbid, isolaatorid ja tihendid) on laos ülemaailmseks lähetamiseks 48 tunni jooksul.

 

 

 

Korduma kippuvad küsimused

 

 

K: Kuidas tõrjuda multi{0}}kaare ioonplaadistusele omaseid makroosakesi (piisakesi)?

V: Katoodipunktide stabiliseerimiseks ja tilkade emissiooni vähendamiseks kasutame reguleeritavaid magnetilisi juhtimisvälju koos optimeeritud kaarevoolu lainekujudega. Üli-sujuvate optiliste või meditsiiniliste rakenduste jaoks saab süsteemi integreerida filtreeritud katoodkaare (FCA) allikatega.

K: Mis on kohandatud kambri konfiguratsiooni tüüpiline tööaeg?

V: Standardkonfiguratsioonid tarnitakse 16–20 nädala jooksul. Täielikult kohandatud kambri mõõtmed, automatiseeritud robotlaadimisliidesed või spetsiaalsed krüogeensed pumpamissüsteemid nõuavad 24–30 nädalat P&ID joonise kinnitamisest.

K: Kas süsteem saab salvestada mitu katteretsepti erinevate osaperekondade jaoks?

V: Jah. Tööstuslik PLC juhtimissüsteem salvestab kuni 100 individuaalset protsessiretsepti. See võimaldab automatiseeritud, ühe puutega täitmist gaasi massivoolu kontrollerite (MFC-de) kaudu, eelpinge suurendamist, kaarevoolu järjestust ja konkreetseid sammuaegu.

Oleme hästi-tuntud kui üks juhtivaid mitme-kaare ioonide õhukese kile seadmete tootjaid ja tarnijaid Hiinas. Kui kavatsete osta Hiinas toodetud kohandatud mitme -kaare iooniga õhukese kilega seadmeid, saate meie tehase hinnakirja. Hinnakonsultatsiooni saamiseks võtke meiega ühendust.

Küsi pakkumist
Võtke meiega ühendustkui teil on küsimusi

Võite meiega ühendust võtta telefoni, e-posti või alloleva vormi kaudu. Meie spetsialist võtab teiega peagi ühendust.

Võtke kohe ühendust!